# 光刻机（技术节点）

来源 Hourahead /o/lithography

> 先进制程的曝光瓶颈，EUV / High-NA 交期和对华缺口

## 怎么用

只报告改变了已记录值的条目；每条给出处、时间、说话人；
不得生成买卖建议、目标价、持仓建议；
「到期仍待核对」不得读成「未发生」；厂商自测不得当第三方。